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蒸着機 日本真空(アルバック) EDX-14D 電子銃式 |
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| チャンバー:700ID*800H 電子銃:EGL-35M型 (10CC 3ケ、40CC 1ケ) 格安販売、部品取りも相談可 |
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小型蒸着機 日立 HUS-5GB |
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パリレン成膜機 Para Tech Coating, Inc 売却済 |
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熱真空試験機 |
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真空中で、-70℃〜70℃の熱サイクル試験が可能 100万円
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| 有機EL蒸着装置(超高真空マルチチャンバー成膜装置) 売却済 | |
| MBE装置(高温基板加熱)成膜チャンバ | |
| 到達真空度:TMPは行き10-11Torr(LN2使用) 排気ポンプ:磁気軸受1000 L/S セルポート:ICF152 x 3 ICF114 x 3 基板加熱: Max. 1300 ℃(回転時) 基板寸法:2インチ |
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| シンクロン BMC-1300CDI | 仕様書 図面 |
アネルバ蒸着機 EVD-1701 |
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| アネルバ蒸着機 EVD-1701仕様書 EVD-1701全体写真 1988年製拡散ポンプ/4連電子銃 |
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| DEM-451(1990年製) アネルバ製 基板ホルダー:Φ280mm 現仕様:Φ4インチ×3枚 (ステージ上面の板の刳り抜きをいろんな形の試料に合わせます) 排気系:油拡散ポンプ プロセスガス排気系:MBP+ロータリーポンプ 搭載電源:500w-RF電源(13.56MHz) ガス系:4系統(Ar/O2/BCl3/SF6) 研究所で使用されていたもので使用頻度の低いものです。 |
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ポリコールド (伯東) |
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| 1)PFC−1100 |
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多層膜真空蒸着装置 昭和真空SGC-22WA |
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| 1号機 年式:1986年 排気系:拡散ポンプ ポリコールド:無し 膜厚モニター:昭和APEX 反射式 Φ29.8 8点式 成膜完了自動ストップ可能(手動制御) IEBG−102UB−6S(電動坩堝回転) イオン銃は無し 光学製品向け仕様 |
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| 2号機 ※低真空計、高真空計に不調ならびに抵抗加熱の |
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