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パリレン成膜機

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蒸着機 日本真空(アルバック) EDX-14D 電子銃式

 チャンバー:700ID*800H 電子銃:EGL-35M型 (10CC 3ケ、40CC 1ケ)
 格安販売、部品取りも相談可


小型蒸着機 日立 HUS-5GB


パリレン成膜機 Para Tech Coating, Inc 売却済

熱真空試験機

 真空中で、-70℃〜70℃の熱サイクル試験が可能   100万円
有機EL蒸着装置(超高真空マルチチャンバー成膜装置) 売却済
仕様書はこちらから 
 
MBE装置(高温基板加熱)成膜チャンバ
 到達真空度:TMPは行き10-11Torr(LN2使用)
 排気ポンプ:磁気軸受1000 L/S
 セルポート:ICF152 x 3 ICF114 x 3
 基板加熱: Max. 1300 ℃(回転時)
 基板寸法:2インチ
 
 
シンクロン BMC-1300CDI 仕様書 図面

アネルバ蒸着機 EVD-1701

アネルバ蒸着機 EVD-1701仕様書  EVD-1701全体写真 
1988年製拡散ポンプ/4連電子銃 
 
 
DEM-451(1990年製)  アネルバ製
 基板ホルダー:Φ280mm
 現仕様:Φ4インチ×3枚
  (ステージ上面の板の刳り抜きをいろんな形の試料に合わせます) 
 排気系:油拡散ポンプ
 プロセスガス排気系:MBP+ロータリーポンプ
 搭載電源:500w-RF電源(13.56MHz)
 ガス系:4系統(Ar/O2/BCl3/SF6)
 研究所で使用されていたもので使用頻度の低いものです。

ポリコールド (伯東)

1)PFC−1100
2)PFC−550

多層膜真空蒸着装置 昭和真空SGC-22WA

1号機
     年式:1986年
   排気系:拡散ポンプ
   ポリコールド:無し
   膜厚モニター:昭和APEX 反射式
          Φ29.8 8点式
   成膜完了自動ストップ可能(手動制御)
   IEBG−102UB−6S(電動坩堝回転)
          イオン銃は無し
   光学製品向け仕様

2号機
   年式:1986年
   排気系:拡散ポンプ
   ポリコールド:無し
   膜厚モニター:SOM−500 反射式  
          Φ29.8 8点式
   手動蒸着
   IEBG−102UB−6S(坩堝回転は手動)
          イオン銃は無し
   光学製品向け仕様

  ※低真空計、高真空計に不調ならびに抵抗加熱の
   ボリューム故障有ります。