小型スパッタ |
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| RFスパッタ RFパワー600W ターボ分子ポンプ 基板加熱850℃ ターゲット直径100mm 平成7年製 |
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RIE |
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| 反応性イオンエッチング Si用 13.56MHz 放電並行平板型 基板直径150mm 液体窒素により-120℃に冷却 Siの深堀可能 基板加熱450℃ 平成6年製 |
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酸化拡散装置 |
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| 酸化拡散装置 ハロゲンライプによる高速集光加熱1100℃ 基板直径50mm 平成7年製 |
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ワイヤーボンダー散装置 |
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| 超音波工業 USW-5Z60K | |
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マニュピレーター |
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スピンコーター |
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